紫外線燈是一種能發(fā)射紫外線的裝置,是觀察樣品熒光和磷光特征必需的工具,也是用于殺菌消毒的一種物理手段。波長(zhǎng)在10~400nm的范圍內(nèi)。
相關(guān)的燈類型介紹:
1.強(qiáng)紫外線高壓水銀燈
由高品質(zhì)的純石英管材制造而成,使紫外線能高程度及大量的穿透,其弧長(zhǎng)度/發(fā)光長(zhǎng)度可5厘米至300厘米不等,常見功率為每厘米30W至200W,超大功率UV燈一般在每厘米200W或以上操作,該燈光譜有效范圍在350-450nm之間,主波峰為365nm,有700多個(gè)品種,功率由100w-25kw。UV燈的壽命一般指其能維持足夠的能量進(jìn)行操作的時(shí)間,在此期間其能量逐漸衰減直至低于可接受的范圍為止,一般情況標(biāo)準(zhǔn)的UV燈能放射足夠的UV能量達(dá)800小時(shí)。UV固化廣泛用于竹木地板、家具、裝飾材料、印刷、印鐵制罐、塑膠涂裝、標(biāo)牌、電路板、光盤等行業(yè);也是半導(dǎo)體、電子元件、液晶等粘接固化的理想光源。
2.高強(qiáng)金屬鹵素?zé)?/strong>
這一類燈是由高壓水銀燈發(fā)展而來,由高純度石英管材制造而成,石英管材內(nèi)充入了含有汞、氬、鎵的碘化物、鐵的碘化物以及一些稀有金屬鹵化物。鎢電極通過鉬帶密封后形成電路,并以金屬燈頭或者帶引線的陶瓷燈頭作為末端。碘化鎵在金鹵燈所產(chǎn)生的光譜中有引入403nm和417nm譜線的功效,這一點(diǎn)顯著的用于二氮化合物的加工。碘化鐵是一種能提供寬光譜紫外輻射的鹵化物,并且能夠增強(qiáng)燈在380nm區(qū)域的光譜輸出,添加了碘化鐵的金鹵燈用在光聚合物和日光膠片曝光系統(tǒng)中有非常好的效果。金屬鹵素?zé)舻墓庾V能量與某些質(zhì)材的吸收光譜十分吻合。
3.曬版燈
這一類燈由高純度石英管材制造而成,石英管材內(nèi)充入了含有汞、鈷、鎵的碘化物以及一些稀有金屬碘化物,又稱紫外線放電燈,俗稱曬版燈,光譜主要分布于300-400nm及380-480nm和A波段紫外線,主波峰為420nm,功率從1KW-7KW,其燈具有壽命長(zhǎng),電弧穩(wěn)定,強(qiáng)度高曝光質(zhì)量好等優(yōu)點(diǎn),應(yīng)用于非銀鹽膠片(重氮鹽膠片及感光膠),阻焊干膜、濕膜、綠色阻焊劑、液態(tài)光敏阻焊劑、樹脂版、PS版、菲林、絲網(wǎng)、PCB重氮薄膜等感光材料的曬版曝光。
4.毛細(xì)管超高壓水銀燈
主波峰在313 nm-480 nm之間,規(guī)格有30多個(gè)品種,該燈是一種水冷及瞬間點(diǎn)亮的燈型,其主要特點(diǎn)為瞬間啟動(dòng),功率密度高,水冷卻溫度低,主要應(yīng)用在UV固化,曝光,制版,光化學(xué)反應(yīng)及印刷線路板工業(yè)。
5.臭氧
對(duì)254nm波長(zhǎng)的紫外光 同樣具有強(qiáng)烈的吸收作用,臭氧又分解為原子氧和氧氣。其中原子氧是極活潑的,在它作用下,物體表面上的碳和碳?xì)浠衔锏姆纸馕锟苫铣煽蓳]發(fā)的氣體:二氧化碳和水蒸氣等逸出表面,從而徹底清除了黏附在物體表面上的碳和有機(jī)污染物。目前國(guó)外廣泛使用的清洗方法是紫外(UV)光清洗,它一方面能避免由于使用有機(jī)溶劑造成的污染,同時(shí)能夠?qū)⑶逑催^程縮短。而用普通石英生產(chǎn)的低壓汞的洗凈效果遠(yuǎn)遠(yuǎn)小于用合成石英制成的低壓汞燈。
6.紫外線鐵燈
該燈光譜范圍在350-450nm之間,在365-380nm處有很強(qiáng)的紫外輻射。主要用于干膜、濕膜、綠色阻焊劑的曝光,具有曝光時(shí)間短、強(qiáng)度高、曝光質(zhì)量好等優(yōu)點(diǎn)。
7.殺菌消毒燈
殺菌消毒燈(低壓汞燈)該燈主波峰為253.7nm,功率從4W-100W不等,主要用于消毒、殺菌、凈化空氣,也用于印刷及絲印皺紋墨的預(yù)固化。
8.短弧氙氣燈
氙燈(又稱短弧氙燈)是一種具有極高高度的電光源,色溫為6000K左右,光色接近太陽光,是目前氣體放電燈中顯色性更好的一種光源,適應(yīng)于放映電影,火車車燈以及模擬日光等方面??梢宰龀汕蛐?、直管式、水冷式氙燈。
8.準(zhǔn)分子放電燈
紫外線準(zhǔn)分子放電燈是利用在紫外線燈管外的高壓、高頻對(duì)燈管內(nèi)的稀有氣體進(jìn)行轟擊發(fā)出單一的172nm紫外線,光子能量達(dá)696KJ/mol,高于絕大多數(shù)有機(jī)分子鍵能。利用其單一的高強(qiáng)紫外線,可實(shí)現(xiàn)很好的半導(dǎo)體、液晶屏制造中的光清洗、光改性,處理效果好,速度快。
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